HAP+R - Selectively Purifying Face Wash
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Ingrédients principaux
Water, Glycerin, Propanediol, Stearic Acid, Hydroxyapatite, Myristic Acid, PEG-32, PEG-6, Lauric Acid, Glycosyl Trehalose, Potassium Hydroxide, Sodium Cocoyl Methyltaurate, Lauramide DEA, Hydrolyzed Hydrogenated Starch, Glyceryl Stearate (SE), Aluminum Magnesium Silicate, Xanthan Gum, Dipotassium Glycyrrhizate, Hexyl Dimethylolpropionate, Butylene Glycol, Hydroxypropyltrimonium Hyaluronate, Cocoyl Arginine Ethyl PCA, Actinidia polygama Fruit Extract, Fragrance
Les ingrédients peuvent changer à la discrétion du fabricant. Pour connaître la liste complète et à jour des ingrédients, veuillez vous référer au packaging.
Détails
Informations produit
| Pays de fabrication : | Japon |
| Référence : | 1070659660 |
À propos de la marque : HAP+R
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