HAP+R - Selectively Purifying Face Wash
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Ingredientes principales
Water, Glycerin, Propanediol, Stearic Acid, Hydroxyapatite, Myristic Acid, PEG-32, PEG-6, Lauric Acid, Glycosyl Trehalose, Potassium Hydroxide, Sodium Cocoyl Methyltaurate, Lauramide DEA, Hydrolyzed Hydrogenated Starch, Glyceryl Stearate (SE), Aluminum Magnesium Silicate, Xanthan Gum, Dipotassium Glycyrrhizate, Hexyl Dimethylolpropionate, Butylene Glycol, Hydroxypropyltrimonium Hyaluronate, Cocoyl Arginine Ethyl PCA, Actinidia polygama Fruit Extract, Fragrance
Los ingredientes pueden cambiar por decisión del fabricante. Para obtener una lista completa y actualizada de los ingredientes, consulta el envase del producto.
Información
Información del producto
| Fabricado en: | Japón |
| N.º de catálogo: | 1070659660 |
Acerca de la Marca: HAP+R
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